| dc.creator | Silva, Gabriela Tabita da | |
| dc.date.accessioned | 2018-11-19T13:48:58Z | |
| dc.date.available | 2018-11-19T13:48:58Z | |
| dc.date.issued | 2018-04-03 | |
| dc.identifier.citation | SILVA, Gabriela Tabita da; DUARTE, Luciana Mirelly Gomes. FUV: foto expositora ultravioleta para produção de placas de circuito impresso. 2017. 111f. Trabalho de Conclusão de Curso (Técnico em Eletrônica) – Instituto Federal de Educação, Ciência e Tecnologia do Rio Grande do Norte, Natal, 2017. | pt_BR |
| dc.identifier.uri | http://memoria.ifrn.edu.br/handle/1044/1578 | |
| dc.language | por | pt_BR |
| dc.publisher | Instituto Federal de Educação, Ciência e Tecnologia do Rio Grande do Norte | pt_BR |
| dc.rights | Acesso Aberto | pt_BR |
| dc.subject | Placa de circuito impresso | pt_BR |
| dc.subject | Fotolitografia | pt_BR |
| dc.subject | Fotoexposição | pt_BR |
| dc.subject | Impressão UV | pt_BR |
| dc.title | FUV: foto expositora ultravioleta para produção de placas de circuito impresso | pt_BR |
| dc.type | Trabalho de Conclusão de Curso | pt_BR |
| dc.creator.Lattes | http://lattes.cnpq.br/8210200432056762 | pt_BR |
| dc.contributor.advisor1 | Souza, Jair Fernandes de | |
| dc.contributor.advisor1Lattes | http://lattes.cnpq.br/3907353314468789 | pt_BR |
| dc.contributor.referee1 | Souza, Jair Fernandes de | |
| dc.contributor.referee2 | Lima, Roberto Rodrigues Cunha | |
| dc.contributor.referee3 | Nascimento, Pedro Ivo de Araújo do | |
| dc.publisher.country | Brasil | pt_BR |
| dc.publisher.department | Natal - Zona Norte | pt_BR |
| dc.publisher.initials | IFRN | pt_BR |
| dc.subject.cnpq | CNPQ::ENGENHARIAS | pt_BR |
| dc.description.resumo | No âmbito da eletrônica e nos campos de estudos acadêmicos atrelados a ela, a produção de placas de circuitos impressos, conhecidas como PCIs, é inegavelmente uma grande necessidade. Com isso, se faz necessário a obtenção de aparatos que possibilitem a confecção das PCIs com um maior rigor e qualidade, tendo em vista que o investimento em mecanismos de pesquisa oportuniza o fomento das atividades. Tais constatações levaram ao desenvolvimento do projeto FUV, cujo objetivo foi desenvolver um equipamento semi-automático para a realização da etapa de transferência de layouts à placa através da técnica de fotolitografia - fotoexposição a radiação ultravioleta (UV), de modo a oferecer funcionalidade e otimização no desenvolvimento de projetos de ensino e pesquisa no âmbito do IFRN. Este trabalho divide-se em duas grandes partes: O algoritmo, parte fundamental do equipamento e que refere-se ao código responsável pelo controle do sistema, e o hardware que, por sua vez, é subdividido em três pequenas partes: Os recursos relacionados a iluminação e sua manutenção, o recurso de controle e os elementos de interface com o usuário. Após produzido, o sistema apresentou excelentes resultados, demonstrando êxito tanto no funcionamento eletroeletrônico como um todo quanto na confecção das PCIs. Nesse ponto em específico, diante dos testes executados, o equipamento mostrou-se apto a confecção de placas single side e double side, permitindo a fabricação de trilhas com espessura mínima de 0,203 mm, evidenciando consequentemente sua utilidade na execução de projetos de sistemas eletrônicos com dimensões físicas reduzidas, permitindo inclusive o desenvolvimento de placas com tecnologia de montagem em superfície (SMT), entre outras possibilidades de uso. Trazendo assim, um saldo indiscutivelmente positivo em relação àquilo que foi proposto.
Palavras-chave: Placa de Circuito Impresso. Fotolitografia. Fotoexposição. Impressão UV. | pt_BR |
| dc.creator.Lattes2 | http://lattes.cnpq.br/7744217581273525 | pt_BR |
| dc.creator.name2 | Duarte, Luciana Mirelly Gomes | |
